لقد تمت الاضافة بنجاح
تعديل العربة إتمام عملية الشراء
×
كتب ورقية
كتب الكترونية
كتب صوتية
English Books
أطفال وناشئة
وسائل تعليمية
متجر الهدايا
شحن مجاني
اشتراكات
بحث متقدم
نيل وفرات
حسابك لائحة الأمنيات عربة التسوق نشرة الإصدارات
0

Heavily n-type doped silicon and the dislocation formation during its growth by the Czochralski method.


Heavily n-type doped silicon and the dislocation formation during its growth by the Czochralski method.
133.00$
الكمية:
شحن مخفض
Heavily n-type doped silicon and the dislocation formation during its growth by the Czochralski method.
تاريخ النشر: 20/09/2022
الناشر: Fraunhofer Verlag
النوع: ورقي غلاف عادي
لغة: إنكليزي
طبعة: 1
حجم: 15×21
عدد الصفحات: 206
مجلدات: 1
ردمك: 9783839613450
Heavily n-type doped silicon and the dislocation formation during its growth by the Czochralski method.
Heavily n-type doped silicon and the dislocation formation during its growth by the Czochralski method.

تاريخ النشر: 20/09/2022
الناشر: Fraunhofer Verlag
النوع: ورقي غلاف عادي
لغة: إنكليزي
طبعة: 1
حجم: 15×21
عدد الصفحات: 206
مجلدات: 1
ردمك: 9783839613450
133.00$
الكمية:
شحن مخفض
Heavily n-type doped silicon and the dislocation formation during its growth by the Czochralski method.

  • الزبائن الذين اشتروا هذا البند اشتروا أيضاً
  • الزبائن الذين شاهدوا هذا البند شاهدوا أيضاً

أبرز التعليقات
أكتب تعليقاتك وشارك أراءك مع الأخرين.